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    快速熱處理退火爐,半導體RTP快速退火 爐
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    快速熱處理退火爐,半導體RTP快速退火 爐可用于硅及其他化合物材料離子注入后的退火,硅化物形成,歐姆接觸制備以及快速氧化,快速氮化等方面。該設備具有很好的長(cháng)時(shí)間工作穩定性以及快速升降溫,慢速升降溫功能

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