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    HMDS真空系統 HMDS預處理系統 圖像反轉烘箱
    HMDS真空系統 HMDS預處理系統 圖像反轉烘箱

    HMDS真空系統 HMDS預處理系統 圖像反轉烘箱可快速、均勻、經(jīng)濟高效地用六甲基二硅烷 (HMDS) 對晶圓表面進(jìn)行底漆處理,從而改善光刻膠的附著(zhù)力。

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    HMDS烘箱  圖像反轉系統 HMDS涂膠機
    HMDS烘箱 圖像反轉系統 HMDS涂膠機

    HMDS烘箱 圖像反轉系統 HMDS涂膠機使用HMDS(六甲基二硅氮烷)對晶圓表面進(jìn)行快速、均勻、經(jīng)濟高效的涂布,以提高光刻膠的附著(zhù)力。這些多功能系統還支持圖像反轉,形成具有與正光刻膠相同的分辨率和易用性的負圖像。

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    HMDS疏水烘箱,HMD真空烘箱
    HMDS疏水烘箱,HMD真空烘箱

    HMDS疏水烘箱,HMD真空烘箱是涂膠前對硅片表面進(jìn)行處理,可以增加硅片表面水分子的接觸角,使襯底表面從親水性轉化為疏水性

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    HMDS烘箱,太陽(yáng)能電池片HMDS烘箱
    HMDS烘箱,太陽(yáng)能電池片HMDS烘箱

    HMDS烘箱,太陽(yáng)能電池片HMDS烘箱適用行業(yè):MEMS、太陽(yáng)能、電池片、濾波、放大、功率等器件,晶圓、玻璃、貴金屬,SiC(碳化硅)、GaN(氮化鎵)、ZnO(氧化鋅)、GaO(氧化鎵)、金剛石等第三代半導體材料。

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    六甲基二硅氮烷(HMDS)表面處理設備 工業(yè)烘箱
    六甲基二硅氮烷(HMDS)表面處理設備 工業(yè)烘箱

    六甲基二硅氮烷(HMDS)表面處理設備的作用是勻膠前襯底“增附”處理。在光刻中,通常會(huì )用到一些例如藍寶石、氮化鎵、砷化鎵甚至是貴金屬薄膜等襯底,這類(lèi)襯底與光刻膠的粘附性往往不怎么理想,這會(huì )導致后續的光刻顯影環(huán)節出現“裂紋”甚至是漂膠等問(wèn)題。因此必須通過(guò)工藝手段改善,這個(gè)步驟我們叫做增附處理或者叫做助黏。

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    HMDS預處理系統(JS-HMDS90 )-真空烘箱
    HMDS預處理系統(JS-HMDS90 )-真空烘箱

    HMDS預處理系統(JS-HMDS90 )是將“去水烘烤“和HMDS處理放在同一道工藝,同一個(gè)容器中進(jìn)行,晶片在箱內先經(jīng)過(guò)100℃-200℃的去水烘烤,再進(jìn)行HMDS處理,不需要從箱內傳出,而接觸到空氣,晶片吸收水分子的機會(huì )大大降低,所以有更好的處理效果。

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    智能型HMDS真空系統(JS-HMDS90-AI)
    智能型HMDS真空系統(JS-HMDS90-AI)

    智能型HMDS真空系統(JS-HMDS90-AI)將HMDS氣相沉積至半導體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃、藍寶石、晶圓等材料表面后,經(jīng)系統加溫可反應生成以硅氧烷為主體的化合物。它成功地將硅片表面由親水變?yōu)槭杷?,其疏水基可很好地與光刻膠結合,起著(zhù)偶聯(lián)劑的作用。

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