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    HMDS真空系統 HMDS預處理系統 圖像反轉烘箱

    HMDS真空系統 HMDS預處理系統 圖像反轉烘箱

    簡(jiǎn)要描述:

    HMDS真空系統 HMDS預處理系統 圖像反轉烘箱可快速、均勻、經(jīng)濟高效地用六甲基二硅烷 (HMDS) 對晶圓表面進(jìn)行底漆處理,從而改善光刻膠的附著(zhù)力。

    HMDS真空系統 HMDS預處理系統 圖像反轉烘箱用途

      二合一真空腔體帶來(lái)更低的成本、更高的效率和更可靠的工藝。先進(jìn)的溫控、工藝時(shí)間和腔體尺寸控制系統讓您用更少的化學(xué)品,實(shí)現對沉積過(guò)程環(huán)境的掌控。

       智能型HMDS真空系統可快速、均勻、經(jīng)濟高效地用六甲基二硅烷 (HMDS) 對晶圓表面進(jìn)行底漆處理,從而改善光刻膠的附著(zhù)力。

    有效的光刻膠處理是后續所有工藝步驟的基礎,只有被處理的表面才能準確復制,避免蝕刻不足或邊緣粗糙。JS-HMDS系列真空系統可脫水晶圓,使HMDS 層附著(zhù)力更強,即使暴露于大氣濕氣數周也能保持穩定。

    智能型HMDS真空系統 HMDS預處理系統特點(diǎn)

    通過(guò)使用六甲基二硅氮烷(HMDS)對晶圓表面進(jìn)行快速、均勻、且成本效益高的硅烷化處理,有效增強了與光刻膠的粘合性。

    真空鍍膜技術(shù)能脫水晶圓,確保了更強的粘接強度。

    即便長(cháng)時(shí)間暴露于潮濕的空氣中,HMDS層也能維持其穩定性。

    我們的先進(jìn)控制系統支持用戶(hù)根據需要選擇溫度、處理時(shí)長(cháng)及腔室尺寸。

    此外,我們的技術(shù)還能降低化學(xué)物品的使用量和成本,實(shí)現經(jīng)濟效益。

    通過(guò)工藝處理,達到圖像反轉效果,解決了圖像反轉光刻膠的復雜性。

    HMDS真空系統 HMDS預處理系統 圖像反轉烘箱參數

    設備型號:JS-HMDS90AI                       

    工作室尺寸(mm): 450×450×450,650*650*650,可自定
    材質(zhì):外箱采用優(yōu)質(zhì)冷軋板噴塑或不銹鋼,內箱采用316L醫用級不銹鋼
    溫度范圍:RT+10-200℃ 
    溫度分辨率:0.1℃
    溫度波動(dòng)度:≤±0.5
    真空度:1torr
    潔凈度:設備采用無(wú)塵材料,適用100級光刻間凈化環(huán)境
    控制儀表:人機界面
    擱板層數:2層
    HMDS控制:可控制HMDS藥夜添加量
    真空泵:旋片式油泵或干泵
    保護裝置:HMDS藥液泄漏報警裝置,HMDS自動(dòng)添加,超溫保護,漏電保護,過(guò)熱保護


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