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    HMDS烘箱  圖像反轉系統 HMDS涂膠機

    HMDS烘箱 圖像反轉系統 HMDS涂膠機

    簡(jiǎn)要描述:

    HMDS烘箱 圖像反轉系統 HMDS涂膠機使用HMDS(六甲基二硅氮烷)對晶圓表面進(jìn)行快速、均勻、經(jīng)濟高效的涂布,以提高光刻膠的附著(zhù)力。這些多功能系統還支持圖像反轉,形成具有與正光刻膠相同的分辨率和易用性的負圖像。

    HMDS烘箱  圖像反轉系統 HMDS涂膠機用途

      使用HMDS(六甲基二硅氮烷)對晶圓表面進(jìn)行快速、均勻、經(jīng)濟高效的涂布,以提高光刻膠的附著(zhù)力。這些多功能系統還支持圖像反轉,形成具有與正光刻膠相同的分辨率和易用性的負圖像。

    HMDS烘箱  圖像反轉系統 HMDS涂膠機應用行業(yè)

    MEMS系統

    CVD薄膜;

    光刻

    用于光刻膠附著(zhù)力的 HMDS 

    作為聚合物和基材之間的粘合層

    作為印章和聚合物材料之間的非常薄和保形的離型層;

    噴墨

    防止墨水積聚在噴嘴面板上,確保墨水流動(dòng)不受限制;

    生物MEMS

    親水性和生物相容性CVD薄膜可用于改善潤濕性,或防止蛋白質(zhì)吸收,或減少器件性能的“漂移"

    微陣列芯片的硅烷/底物粘附:DNA、基因、蛋白質(zhì)、抗體、組織;

    光學(xué)和 AR/VR 應用

    修改光學(xué)特性

    創(chuàng )建納米壓印層或鈍化層;

    圖像反轉

    金屬剝離工藝,用于WLP、RDL和掩模制造操作中的無(wú)蝕刻工藝;

    HMDS烘箱  圖像反轉系統 六甲基二硅氮烷涂膠機技術(shù)性能

      材質(zhì):內箱采用316L醫用級不銹鋼

      工藝溫度:100-150℃

      溫度分辨率:0.1℃

      溫度波動(dòng)度:≤±0.5

      真空度:≤133pa(1torr)

      操作界面:人機界面,一鍵作業(yè)

      層數:2層

      HMDS控制:可控制HMDS藥液的添加量

      圖像處理:圖像反轉

      真空泵: 進(jìn)口無(wú)油泵

      保護裝置:緊急停止,HMDS藥液泄漏報&警提示,HMDS低液位報&警,超溫保護,漏電保護,過(guò)熱保護等


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