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    HMDS烘箱,太陽(yáng)能電池片HMDS烘箱

    HMDS烘箱,太陽(yáng)能電池片HMDS烘箱

    簡(jiǎn)要描述:

    HMDS烘箱,太陽(yáng)能電池片HMDS烘箱適用行業(yè):MEMS、太陽(yáng)能、電池片、濾波、放大、功率等器件,晶圓、玻璃、貴金屬,SiC(碳化硅)、GaN(氮化鎵)、ZnO(氧化鋅)、GaO(氧化鎵)、金剛石等第三代半導體材料。

    HMDS烘箱,太陽(yáng)能電池片HMDS烘箱簡(jiǎn)介

    光伏刻蝕是太陽(yáng)能電池制造過(guò)程中的重要環(huán)節,下面是一般光伏刻蝕工藝的流程:

    1. 表面準備:可以采用清洗溶液、酸洗、超聲波清洗等方式。

    2. 光罩/掩膜涂覆:在光伏刻蝕中,需要使用光罩或掩膜來(lái)保護不需要刻蝕的區域。光

    3. 刻蝕:具體刻蝕條件(如刻蝕液的濃度、溫度、刻蝕時(shí)間等)會(huì )根據電池設計和制造要求進(jìn)行控制。

    4. 刻蝕后處理:后處理可能包括漂洗、清洗、脫罩等步驟,以確保電池片的質(zhì)量和可靠性。

    5. 光伏電池制造其他工藝:刻蝕只是太陽(yáng)能電池制造的一部分,之后還需要進(jìn)行光伏電池的其他工藝。

    HMDS烘箱,太陽(yáng)能電池片HMDS烘箱用途

    光刻蝕刻加工的基本原理:

    1. 光敏材料涂覆:首先,在待加工的基底表面涂覆一層光敏感材料(例如光刻膠)。該材料對于特定波長(cháng)的光會(huì )發(fā)生化學(xué)或物理變化。涂覆的光敏材料形成了一個(gè)稱(chēng)為“光刻膠層"的薄膜。

    2. 光罩設計和準備

    3. 曝光

    4. 圖案形成

    5. 刻蝕。

    然而在光敏材料涂覆前需要將電池片基底做疏水性處理,該處理工藝需要借助HMDS增粘劑。一般通過(guò)氣相沉積的方法將HMDS處理在襯底表面。該設備為上海雋思HMDS烘箱

    HMDS烘箱的性能:

    溫度范圍:RT+10-200℃

    真空度:≤1torr

    操作界面:人機界面

    工藝編輯:可儲存5個(gè)配方

    氣體:N2進(jìn)氣閥,自動(dòng)控制

    容積:定制

    產(chǎn)品兼容性:2~12寸晶圓及碎片、方片等

    適用行業(yè):MEMS、太陽(yáng)能、電池片、濾波、放大、功率等器件,晶圓、玻璃、貴金屬,SiC(碳化硅)、GaN(氮化鎵)、ZnO(氧化鋅)、GaO(氧化鎵)、金剛石等第三代半導體材料。




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