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    晶元烘箱的技術(shù)工藝及流程

    更新時(shí)間:2023-07-25   點(diǎn)擊次數:379次
      晶元烘箱是半導體制造過(guò)程中關(guān)鍵的設備之一,用于處理晶元在制造過(guò)程中的濕度和雜質(zhì)等問(wèn)題。下面將介紹該烘箱的技術(shù)工藝及流程。
     
      烘箱預熱:在開(kāi)始使用烘箱之前,需要進(jìn)行預熱操作。這是為了確保烘箱內部溫度的均勻性,以及去除可能存在的雜質(zhì)和濕氣。通常使用高溫來(lái)預熱烘箱,使其達到穩定的工作溫度。
     
      晶元裝載:預熱完成后,將待處理的晶元放置到烘箱的載盤(pán)上。載盤(pán)通常采用特殊材料制成,可以承受高溫并確保晶元的平穩運輸。
     
      清潔烘烤:在晶元進(jìn)入烘箱之前,必須確保其表面沒(méi)有雜質(zhì)。因此,在烘箱中的一個(gè)步驟是對晶元進(jìn)行清潔烘烤。這通常包括在高溫下加熱晶元,以去除可能附著(zhù)在其表面的有機和無(wú)機雜質(zhì)。
    晶元烘箱
     
      高溫烘烤:晶元進(jìn)入正式的高溫烘箱處理階段。在這個(gè)過(guò)程中,烘箱內部會(huì )維持特定的溫度和時(shí)間條件,以去除晶元表面和內部的濕氣。高溫可以使雜質(zhì)蒸發(fā)并從晶元表面揮發(fā)掉。
     
      冷卻:完成高溫烘烤后,晶元需要進(jìn)行冷卻,以確保其溫度逐漸降低到安全的水平。這通常通過(guò)將晶元保持在烘箱內,等待其自然冷卻或者使用輔助的冷卻裝置來(lái)實(shí)現。
     
      取出晶元:冷卻完成后,可以將晶元從烘箱中取出。此時(shí),晶元應該已經(jīng)干燥并去除了大部分的雜質(zhì)。
     
      總結起來(lái),晶元烘箱的技術(shù)工藝及流程包括預熱、晶元裝載、清潔烘烤、高溫烘烤、冷卻和取出晶元等步驟。通過(guò)這些步驟,晶元可以得到適當的處理,以滿(mǎn)足半導體制造的要求。

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