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    HMDS預處理烘箱在光刻工藝中的重要作用

    更新時(shí)間:2023-12-13   點(diǎn)擊次數:608次

    HMDS預處理烘箱在光刻工藝中的重要作用為:增強光刻膠和襯底表面的粘附力。

    光刻工藝中涂膠顯影流程包括HMDS(六甲基二硅氮烷,增粘劑)預處理、涂膠、前烘、曝光、后烘、顯影和堅膜。

    HMDS預處理作用:

    增強光刻膠和襯底表面的粘附力;

    實(shí)現方法:浸泡、涂覆、氣相處理(即HMDS烘箱)等。

    HMDS預處理烘箱

       JS-hmds90烘箱采用氣相沉積的方法涂布HMDS化合物。HMDS烘箱在高溫條件下,達到真空狀態(tài)后開(kāi)始涂布工藝,涂布完成后排出尾氣,烘箱內部充入N2,達到常壓后方可開(kāi)門(mén)。

    溫度范圍:RT+10-250℃

    真空度:≤1torr

    控制儀表:人機界面,一鍵運行

    儲液瓶:HMDS儲液量1000ml 

    真空泵:無(wú)油渦旋真空泵

    數據處理:多個(gè)工藝方案,可修改并記錄,使用數據可記錄

    保護裝置: 低液位報警,HMDS藥液泄漏報&警,超溫保護并斷開(kāi)加熱,超溫保護,漏電保護,過(guò)熱保護等




    涂膠

    作用:a.轉移掩模版圖形到襯底的介質(zhì)b刻蝕工藝中保護襯底;實(shí)現方法:浸泡、旋轉、噴霧、刷膠等:

    前烘

    b.蒸發(fā)溶劑;作用:a.增強粘附性實(shí)現方法:真空熱板85~120C處理。

    曝光

    作用:將掩模版圖形轉移到襯底表面;實(shí)現方法:接觸式、接近式、投影式。

    后烘

    作用:a.減少駐波效應

            b.使光刻膠更易溶于顯影液:實(shí)現方法:熱板或烘箱等110-130C處理。

    顯影作用:去除(未)曝光膠膜,保留圖形實(shí)現方法:浸泡、旋轉浸泡、旋轉噴霧

    堅膜

    作用:a.進(jìn)一步減少駐波效應 

            b.進(jìn)一步增強抗刻蝕能力;實(shí)現方法:熱板或堅膜烘箱等100-130C處理


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